ดูเหมือนว่าคุณได้ปิดใช้งาน JavaScript ในเบราว์เซอร์ของคุณ บางฟังก์ชันในหน้านี้จะใช้ไม่ได้จนกว่าคุณจะเข้าสู่ระบบ

DLPLCRC910EVM

Name: Texas Instruments DLPLCRC910EVM
Brand: Texas Instruments
SKU: 595-DLPLCRC910EVM
Price: 55309.87 THB
Availability: OutOfStock

รูปภาพนี้ใช้สำหรับการอ้างอิงเท่านั้น
ดูข้อมูลจำเพาะของสินค้า

หมายเลขของ Mouser:

595-DLPLCRC910EVM

หมายเลข Mfr.:

DLPLCRC910EVM

Mfr.:

Texas Instruments

คำอธิบาย:

Display Development Tools DLP LightCrafter DLP C910 evaluation mod

เอกสารข้อมูลสินค้า:

DLPLCRC910EVM เอกสารข้อมูลสินค้า (PDF)

ข้อมูลเพิ่มเติม

เรียนรู้เพิ่มเติมเกี่ยวกับ Texas Instruments DLPLCRC910EVM

.hidden-for-nojs { display: none; } .pull-right-nojs { justify-content: flex-end; }

แอตทริบิวต์ผลิตภัณฑ์	ค่าแอตทริบิวต์	เลือกแอตทริบิวต์
ผู้ผลิต:	Texas Instruments
ประเภทสินค้า:	เครื่องมือพัฒนาการแสดงผล
มาตรฐาน RoHS:
สินค้า:	Evaluation Boards
เครื่องมือสำหรับการประเมินผลของ:	DLPC910
เครื่องหมายการค้า:	Texas Instruments
สำหรับใช้ร่วมกับ:	Digital Micromirror Device
ประเภทสินค้า:	Display Development Tools
ระดับ:	DLPLCRC910
จำนวนต่อหีบห่อที่ผลิตจากโรงงาน:	1
หมวดหมู่ย่อย:	Development Tools
ยี่ห้อ:	LightCrafter

ผลิตภัณฑ์ที่พบ:

เลือกกล่องทำเครื่องหมายอย่างน้อยหนึ่งรายการเพื่อแสดงผลิตภัณฑ์ที่คล้ายกัน

เลือกกล่องทำเครื่องหมายด้านบนอย่างน้อยหนึ่งรายการเพื่อแสดงผลิตภัณฑ์ที่คล้ายกันในหมวดหมู่นี้

แอตทริบิวต์ที่เลือก: 0

กรองเอกสาร:

เอกสารข้อมูลสินค้า

DLPLCRC910EVM เอกสารข้อมูลสินค้า (PDF)

EU Declaration of Conformity (PDF)

รหัสการปฏิบัติตามข้อกำหนด

CAHTS:: 8473302000
USHTS:: 8473301180
MXHTS:: 8473300401
ECCN:: EAR99

การจัดประเภทแหล่งกำเนิด

ประเทศถิ่นกําเนิด:: สหรัฐอเมริกา
ประเทศผู้ผลิตชิ้นส่วนประกอบ:: ไม่มี
ประเทศแหล่งกระจาย:: ไม่มี

ประเทศอาจมีการเปลี่ยนแปลง ณ เวลาที่จัดส่ง

DLPLCRC910EVM Evaluation Module

Texas Instruments DLPLCRC910EVM Evaluation Module is based on the DLP® LightCrafter™ DLPC910 controller. The DLPLCRC910EVM reference design allows quicker development cycles for users of the DLPC910 architecture in support of DMDs that implement the DLPC910 controller. The TI DLPLCRC910EVM platform is intended for applications requiring high-speed pattern management and high-resolution patterns.